什么是氣硅
HDK 氣相法二氧化硅是一種高度分散的、無定形并且純度極高的二氧化硅,其制備方法是在氫氧氣相火焰下,由四氯化硅高溫水解而得,其原生粒子是一種內部沒有孔洞的球狀粒子。原生粒子在火焰內相互作用并聚集,形成了聚集體。原生粒子的平均粒徑從7nm~40nm不等,相應地比表面積為150~400m2/g。硅氧烷和硅烷醇基團位于HDK 氣相法二氧化硅微粒的表面。后者的存在使得未經處理的HDK 氣相法二氧化硅有親水性,圖1中表示了親水性HDK 氣相法二氧化硅的表面基團。
圖1.親水型HDK 中表面硅羥基的幾種存在方式
疏水氣硅
通過硅烷醇基團與合適的化合物反應,可對HDK 氣相法二氧化硅進行表面改性。親水性和疏水性的HDK 氣相法二氧化硅已經在許多領域得以成功應用。氣硅在客戶產品中能起到以下作用:
? 補強填料
? 增稠劑和觸變劑
? 防沉劑
? 自由流動助劑
H13L/H15/H20—聚二甲基硅氧烷改性后
H17/H18—聚二甲基二氯硅烷改性后
H2000—六甲基二硅氮烷改性后
圖2-4.HDK表面改性后幾款不同的表面疏水基團的存在形式
氣硅該如何選型
1.通過體系極性選擇
極性差異能給氣硅帶來更好的分散效果,從而使氣硅的性能得到充分的體現;
型號 |
比表(改性類型)/m2/g |
特點 |
|
親水 |
N20ST |
200 |
性價比高,降本推薦 |
N20 |
200 |
經典款 |
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T30 |
300 |
高比表 |
|
T40 |
400 |
最高比表 |
|
V15 |
150 |
易分散 |
|
疏水 |
H18 |
120 (聚二甲基二氯硅烷) |
疏水度高,高性能推薦 |
H20 |
170 (聚二甲基硅氧烷) |
經典款疏水,高性價比 |
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H15 |
120 (聚二甲基硅氧烷) |
低比表易分散 |
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H13L |
90 (聚二甲基硅氧烷) |
消泡劑主推產品 |
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H2000 |
200 (六甲基二硅氮烷) |
補強最佳 |
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H17 |
110 (聚二甲基二氯硅烷) |
最佳分散性 |
如果您對以上產品感興趣,請聯系我們,021-50313752,或我們對應的銷售人員,謝謝!
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